风淋房

　　洁净室（Cleanroom）：空气悬浮粒子浓度受控的房间。它的制作和运用应尽或许的削减室内停留颗粒物。室内其它有关参数如温度、湿度、压力、静电、振荡、噪声等按要求进行操控。——摘自GB50073-2013《洁净厂房规划规范》施行日期2013年9月1日

　　为什么需求洁净室：由于半导体工业所制作的集成电路元件尺度越来越小，在一块小小的芯片上，整合了许许多多的元器件，因而在制作的过程中就有必要避免外界杂质污染源(包含尘土、金属离子、各类有机物等)，由于这些污染源能够构成元器件功能的劣化及产品成品率和可靠性的下降。所以制作集成电路有必要在洁净的环境中进行，以尽量将污染源和硅片阻隔。

　　压力：正压与负压是相对而言，一个洁净室对大气而言是正压洁净室，但对别的一个房间而言或许是负压洁净室。不同等级的洁净室以及洁净区与非洁净区之间的压差不小于5Pa，洁净区与室外的压差不小于10Pa.

　　静电：地上的面层应具有导电功能，并应坚持长期功能安稳，选用静电耗散性资料，外表电阻率1◊105Ω- 1◊1012Ω,地上应设有导电泄放办法和接地结构，活动液体，气体或粉体管道应采纳防静电接地办法。

　　振荡：精细设备、精细仪器仪表的容许振荡值应由生产工艺和设备制作部分供给。振荡特别对光刻设备影响巨大。

　　一般经过服装，MAU，FFU及进口的风淋室等操控手法，可有用操控颗粒物的发生

　　 环境中有才能沉降于外表上构成单分子层(monolayer)薄膜之气态化学污染物质。

　　 曾有研讨指出在等级为class 100洁净室内总有机气态污染物浓度约100μg/m3，而粒状污染物浓度在的洁净室约为20 ng/m3。故洁净室内气态分子污染物堆积于晶圆外表的速率(surface arrival rate)或许为微粒的数个阶层以上。

　　一般AMC体系包含，AMC过滤体系及AMC气体质量监控体系两部分组成，别离起到过滤和承认效果的效果

　　洁净室（区）照度的检测应在室内温度安稳和光源光输出安稳的情况后进行；对新荧光灯区应运用100h以上，并在点着15min后进行测验。

　　照度测验点应挑选在工作面高度进行，一般宜为0.85m，通道测验高度宜为0.2m；测验点数量可按每50㎡洁净室（区）面积一个点核算，但每个房间不得少于1点。

　　实时空气质量监测体系对半导体业界而言，并不生疏。现行形式大都以定点式监测器为干流，散布的规模以正压供气端如气瓶柜、气体分流装备箱，以及特别毒性气体机台通风橱柜等。少部分厂商会在空气质量较差区域、或是回风区架起空气质量监测体系。侦测的原理以电化学式、色带式居多。可是，这一类的监测器质量良莠不齐，部分残次产品穿插搅扰景象严峻。所以，有必要对化学性质附近物质的穿插搅扰，监测器的校对方法与周期合理性，逐个提出讨论。乃至，整理出不适用监测器清单，作为下次监测器选用的参阅根据。

　　除此之外，厂内空气流向同样是监测器布点与走漏搜索时，适当重要的参阅根据。比方说，外气进口在空调层的洁净室，其空气流向一般如下图所示，subfab区域受洁净室作业影响最大，空调层受外气影响较大。因而，在进气口方位与subfab区域架起气体监测器，可有用厘清洁净室内空气污染与外气之间的关连性。再者，关于Fab与subfab间有回风区夹层的工厂，直接在制程区下方架起之气体监测器，可当即反响制程区作业所构成的污染。而关于无回风区夹层的洁净室，架起在Subfab区两边之气体监测器，可分区监测不同回风流场所代表的空气质量情况。因而，根据工厂的空调流场规划、监测方针，挑选适用之监测方位与气体监测东西。